2021-2027年中國半導(dǎo)體測試設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析及投資規(guī)模預(yù)測報告

第一章半導(dǎo)體測試設(shè)備行業(yè)基本概述

1.1　半導(dǎo)體的定義和分類

1.1.1　半導(dǎo)體的定義

1.1.2　半導(dǎo)體的分類

1.1.3　半導(dǎo)體的應(yīng)用

1.2　半導(dǎo)體測試設(shè)備行業(yè)概述

1.2.1　行業(yè)概念界定

1.2.2　行業(yè)主要分類

第二章2016-2020年中國半導(dǎo)體測試設(shè)備行業(yè)發(fā)展環(huán)境PEST分析

2.1　政策環(huán)境（Political）

2.1.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策匯總

2.1.2　半導(dǎo)體制造利好政策

2.1.3　工業(yè)半導(dǎo)體政策動態(tài)

2.1.4　產(chǎn)業(yè)投資基金的支持

2.2　經(jīng)濟(jì)環(huán)境（Economic）

2.2.1　宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展概況

2.2.2　工業(yè)經(jīng)濟(jì)運行情況

2.2.3　經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型升級發(fā)展

2.2.4　未來經(jīng)濟(jì)發(fā)展展望

2.3　社會環(huán)境

2.3.1　移動網(wǎng)絡(luò)運行狀況

2.3.2　研發(fā)經(jīng)費投入增長

2.3.3　科技人才隊伍壯大

2.4　技術(shù)環(huán)境（Technological）

2.4.1　企業(yè)研發(fā)投入

2.4.2　技術(shù)迭代歷程

2.4.3　企業(yè)專利狀況

第三章2016-2020年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展?fàn)顩r

3.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈分析

3.1.1　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)

3.1.2　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈流程

3.1.3　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移

3.2　2016-2020年全球半導(dǎo)體市場總體分析

3.2.1　市場銷售規(guī)模

3.2.2　行業(yè)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

3.2.3　區(qū)域市場格局

3.2.4　產(chǎn)業(yè)研發(fā)投入

3.2.5　市場競爭狀況

3.2.6　企業(yè)支出狀況

3.2.7　產(chǎn)業(yè)影響因素

3.2.8　產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景

3.3　2016-2020年中國半導(dǎo)體市場運行狀況

3.3.1　產(chǎn)業(yè)發(fā)展歷程

3.3.2　產(chǎn)業(yè)銷售規(guī)模

3.3.3　市場規(guī)?，F(xiàn)狀

3.3.4　產(chǎn)業(yè)區(qū)域分布

3.3.5　市場機(jī)會分析

3.4　2016-2020年中國IC設(shè)計行業(yè)發(fā)展分析

3.4.1　行業(yè)發(fā)展歷程

3.4.2　市場發(fā)展規(guī)模

3.4.3　企業(yè)發(fā)展?fàn)顩r

3.4.4　產(chǎn)業(yè)地域分布

3.4.5　專利申請情況

3.4.6　資本市場表現(xiàn)

3.4.7　行業(yè)面臨挑戰(zhàn)

3.5　2016-2020年中國IC制造行業(yè)發(fā)展分析

3.5.1　制造工藝分析

3.5.2　晶圓加工技術(shù)

3.5.3　市場發(fā)展規(guī)模

3.5.4　企業(yè)排名狀況

3.5.5　行業(yè)發(fā)展措施

3.6　2016-2020年中國IC封裝測試行業(yè)發(fā)展分析

3.6.1　封裝基本介紹

3.6.2　封裝技術(shù)趨勢

3.6.3　芯片測試原理

3.6.4　芯片測試分類

3.6.5　市場發(fā)展規(guī)模

3.6.6　企業(yè)排名狀況

3.6.7　技術(shù)發(fā)展趨勢

第四章2016-2020年半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展綜合分析

4.1　2016-2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場發(fā)展形勢

4.1.1　市場銷售規(guī)模

4.1.2　市場結(jié)構(gòu)分析

4.1.3　市場區(qū)域格局

4.1.4　重點廠商介紹

4.1.5　廠商競爭優(yōu)勢

4.1.6　市場發(fā)展預(yù)測

4.2　2016-2020年中國半導(dǎo)體設(shè)備市場發(fā)展現(xiàn)狀

4.2.1　市場銷售規(guī)模

4.2.2　市場需求分析

4.2.3　市場競爭態(tài)勢

4.2.4　市場國產(chǎn)化率

4.2.5　行業(yè)發(fā)展成就

4.3　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓制造設(shè)備市場運行分析

4.3.1　設(shè)備基本概述

4.3.2　核心環(huán)節(jié)分析

4.3.3　主要廠商介紹

4.3.4　廠商競爭格局

4.3.5　市場發(fā)展規(guī)模

4.4　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)核心設(shè)備——晶圓加工設(shè)備市場運行分析

4.4.1　設(shè)備基本概述

4.4.2　市場發(fā)展規(guī)模

4.4.3　市場價值構(gòu)成

4.4.4　市場競爭格局

第五章2016-2020年半導(dǎo)體光刻設(shè)備市場發(fā)展分析

5.1　半導(dǎo)體光刻環(huán)節(jié)基本概述

5.1.1　光刻工藝重要性

5.1.2　光刻工藝的原理

5.1.3　光刻工藝的流程

5.2　半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展分析

5.2.1　光刻技術(shù)原理

5.2.2　光刻技術(shù)歷程

5.2.3　光學(xué)光刻技術(shù)

5.2.4　EUV光刻技術(shù)

5.2.5　X射線光刻技術(shù)

5.2.6　納米壓印光刻技術(shù)

5.3　2016-2020年光刻機(jī)市場發(fā)展綜述

5.3.1　光刻機(jī)工作原理

5.3.2　光刻機(jī)發(fā)展歷程

5.3.3　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈條

5.3.4　光刻機(jī)市場規(guī)模

5.3.5　光刻機(jī)市場需求

5.3.6　光刻機(jī)競爭格局

5.3.7　光刻機(jī)技術(shù)差距

5.4　光刻設(shè)備核心產(chǎn)品——EUV光刻機(jī)市場狀況

5.4.1　EUV光刻機(jī)基本介紹

5.4.2　典型企業(yè)經(jīng)營狀況

5.4.3　EUV光刻機(jī)需求企業(yè)

5.4.4　EUV光刻機(jī)研發(fā)分析

第六章2016-2020年半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展分析

6.1　半導(dǎo)體刻蝕環(huán)節(jié)基本概述

6.1.1　刻蝕工藝介紹

6.1.2　刻蝕工藝分類

6.1.3　刻蝕工藝參數(shù)

6.2　干法刻蝕工藝發(fā)展優(yōu)勢分析

6.2.1　干法刻蝕優(yōu)點分析

6.2.2　干法刻蝕應(yīng)用分類

6.2.3　干法刻蝕技術(shù)演進(jìn)

6.3　2016-2020年全球半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r

6.3.1　市場發(fā)展規(guī)模

6.3.2　市場競爭格局

6.3.3　設(shè)備研發(fā)支出

6.4　2016-2020年中國半導(dǎo)體刻蝕設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r

6.4.1　市場發(fā)展規(guī)模

6.4.2　企業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

6.4.3　市場需求狀況

6.4.4　市場空間測算

第七章2016-2020年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場發(fā)展分析

7.1　半導(dǎo)體清洗環(huán)節(jié)基本概述

7.1.1　清洗環(huán)節(jié)的重要性

7.1.2　清洗工藝類型比較

7.1.3　清洗設(shè)備技術(shù)原理

7.1.4　清洗設(shè)備主要類型

7.1.5　清洗設(shè)備主要部件

7.2　2016-2020年半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r

7.2.1　市場發(fā)展規(guī)模

7.2.2　市場競爭格局

7.2.3　市場發(fā)展機(jī)遇

7.2.4　市場發(fā)展趨勢

7.3　半導(dǎo)體清洗機(jī)領(lǐng)先企業(yè)布局狀況

7.3.1　迪恩士公司

7.3.2　盛美半導(dǎo)體

7.3.3　至純科技公司

7.3.4　國產(chǎn)化布局

第八章2016-2020年半導(dǎo)體測試設(shè)備市場發(fā)展分析

8.1　半導(dǎo)體測試環(huán)節(jié)基本概述

8.1.1　測試流程介紹

8.1.2　前道工藝檢測

8.1.3　中后道的測試

8.2　2016-2020年半導(dǎo)體測試設(shè)備市場發(fā)展?fàn)顩r

8.2.1　市場發(fā)展規(guī)模

8.2.2　市場競爭格局

8.2.3　細(xì)分市場結(jié)構(gòu)

8.2.4　設(shè)備制造廠商

8.2.5　主要產(chǎn)品介紹

8.2.6　市場空間測算

8.3　半導(dǎo)體測試設(shè)備重點企業(yè)發(fā)展啟示

8.3.1　泰瑞達(dá)

8.3.2　愛德萬

8.4　半導(dǎo)體測試核心設(shè)備發(fā)展分析

8.4.1　測試機(jī)

8.4.2　分選機(jī)

8.4.3　探針臺

第九章2016-2020年半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)其他設(shè)備市場發(fā)展分析

9.1　單晶爐設(shè)備

9.1.1　設(shè)備基本概述

9.1.2　市場發(fā)展現(xiàn)狀

9.1.3　企業(yè)競爭格局

9.1.4　市場空間測算

9.2　氧化/擴(kuò)散設(shè)備

9.2.1　設(shè)備基本概述

9.2.2　市場發(fā)展現(xiàn)狀

9.2.3　企業(yè)競爭格局

9.2.4　核心產(chǎn)品介紹

9.3　薄膜沉積設(shè)備

9.3.1　設(shè)備基本概述

9.3.2　市場發(fā)展現(xiàn)狀

9.3.3　企業(yè)競爭格局

9.3.4　市場前景展望

9.4　化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備

9.4.1　設(shè)備基本概述

9.4.2　市場發(fā)展現(xiàn)狀

9.4.3　市場競爭格局

9.4.4　主要企業(yè)分析

第十章國外半導(dǎo)體設(shè)備重點企業(yè)經(jīng)營狀況

10.1　應(yīng)用材料

10.1.1　企業(yè)發(fā)展概況

10.1.2　企業(yè)發(fā)展歷程

10.1.3　企業(yè)經(jīng)營狀況

10.1.4　企業(yè)核心產(chǎn)品

10.1.5　企業(yè)發(fā)展前景

10.2　泛林集團(tuán)

10.2.1　企業(yè)發(fā)展概況

10.2.2　企業(yè)經(jīng)營狀況

10.2.3　企業(yè)核心產(chǎn)品

10.2.4　企業(yè)發(fā)展前景

10.3　阿斯麥

10.3.1　企業(yè)發(fā)展概況

10.3.2　企業(yè)經(jīng)營狀況

10.3.3　企業(yè)核心產(chǎn)品

10.3.4　企業(yè)發(fā)展前景

10.4　東京電子

10.4.1　企業(yè)發(fā)展概況

10.4.2　企業(yè)經(jīng)營狀況

10.4.3　企業(yè)核心產(chǎn)品

10.4.4　企業(yè)發(fā)展前景

第十一章國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備重點企業(yè)經(jīng)營狀況

11.1　晶盛機(jī)電

11.1.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.1.2　經(jīng)營效益分析

11.1.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.1.4　財務(wù)狀況分析

11.1.5　核心競爭力分析

11.2　捷佳偉創(chuàng)

11.2.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.2.2　經(jīng)營效益分析

11.2.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.2.4　財務(wù)狀況分析

11.2.5　核心競爭力分析

11.3　北方華創(chuàng)

11.3.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.3.2　經(jīng)營效益分析

11.3.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.3.4　財務(wù)狀況分析

11.3.5　核心競爭力分析

11.4　中微公司

11.4.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.4.2　經(jīng)營效益分析

11.4.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.4.4　財務(wù)狀況分析

11.4.5　核心競爭力分析

11.5　中電科電子

11.5.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.5.2　經(jīng)營效益分析

11.5.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.5.4　財務(wù)狀況分析

11.5.5　核心競爭力分析

11.6　上海微電子

11.6.1　企業(yè)發(fā)展概況

11.6.2　經(jīng)營效益分析

11.6.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

11.6.4　財務(wù)狀況分析

11. 6.5　核心競爭力分析

第十二章對半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)投資價值分析

12.1　半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)并購市場發(fā)展?fàn)顩r

12.1.1　企業(yè)并購歷史回顧

12.1.2　行業(yè)并購特征分析

12.1.3　企業(yè)并購動機(jī)歸因

12.2　中國半導(dǎo)體設(shè)備市場投資機(jī)遇分析

12.2.1　行業(yè)投資機(jī)會分析

12.2.2　建廠加速拉動需求

12.2.3　產(chǎn)業(yè)政策扶持發(fā)展

12.3　對半導(dǎo)體設(shè)備投資價值評估及建議

12.3.1　投資價值綜合評估

12.3.2　行業(yè)投資特點分析

12.3.3　行業(yè)投資風(fēng)險預(yù)警

12.3.4　行業(yè)投資策略建議

第十三章中國行業(yè)標(biāo)桿企業(yè)項目投資建設(shè)案例深度解析

13.1　半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造項目

13.1.1　項目基本概述

13.1.2　資金需求測算

13.1.3　投資價值分析

13.1.4　建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃

13.1.5　經(jīng)濟(jì)效益分析

13.2　半導(dǎo)體行業(yè)超高潔凈管閥件生產(chǎn)線技改項目

13.2.1　項目基本概述

13.2.2　資金需求測算

13.2.3　投資價值分析

13.2.4　項目實施必要性

13.2.5　實施進(jìn)度安排

13.2.6　經(jīng)濟(jì)效益分析

13.3　光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)化項目

13.3.1　項目基本概述

13.3.2　資金需求測算

13.3.3　投資價值分析

13.3.4　建設(shè)內(nèi)容規(guī)劃

13.3.5　項目實施必要性

13.3.6　經(jīng)濟(jì)效益分析

第十四章對2021-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展趨勢及預(yù)測分析（ZY KT）

14.1　中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展趨勢

14.1.1　技術(shù)發(fā)展利好

14.1.2　自主創(chuàng)新發(fā)展

14.1.3　產(chǎn)業(yè)地位提升

14.1.4　市場應(yīng)用前景

14.2　中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展前景展望

14.2.1　政策支持發(fā)展

14.2.2　行業(yè)發(fā)展機(jī)遇

14.2.3　市場應(yīng)用需求

14.2.4　行業(yè)發(fā)展前景

14.3　對2021-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)預(yù)測分析

14.3.1　2021-2027年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)影響因素分析

14.3.2　2021-2027年中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售規(guī)模預(yù)測（ZY KT）

部分圖表目錄：

圖表1　半導(dǎo)體分類結(jié)構(gòu)圖

圖表2　半導(dǎo)體分類

圖表3　半導(dǎo)體分類及應(yīng)用

圖表4　半導(dǎo)體設(shè)備構(gòu)成

圖表5　IC芯片制造核心工藝主要設(shè)備全景圖

圖表6　2016-2020年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策（一）

圖表7　2016-2020年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策（二）

圖表8　《中國制造2025》半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與政策支持

圖表9　2015-2030年IC產(chǎn)業(yè)政策目標(biāo)與發(fā)展重點

圖表10　一期大基金投資各領(lǐng)域份額占比

圖表11　國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方（一）

圖表12　國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金二期出資方（二）

圖表13　國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金二期投資方向

圖表14　2016-2020年國內(nèi)生產(chǎn)總值及其增長速度

圖表15　2016-2020年三次產(chǎn)業(yè)增加值占國內(nèi)生產(chǎn)總值比重

圖表16　2020年GDP初步核算數(shù)據(jù)

圖表17　2016-2020年GDP同比增長速度

圖表18　2020年規(guī)模以上工業(yè)增加至同比增長速度

圖表19　2020年規(guī)模以上工業(yè)生產(chǎn)主要數(shù)據(jù)

圖表20　2016-2020年網(wǎng)民規(guī)模和互聯(lián)網(wǎng)普及率

圖表21　2016-2020年手機(jī)網(wǎng)民規(guī)模及其占網(wǎng)民比例

圖表22　2016-2020年研究與試驗發(fā)展（R&D）經(jīng)費支出及其增長速度

圖表23　2020年專利申請、授權(quán)和有效專利情況

圖表24　2016-2020年國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備代表公司的研發(fā)支出/營業(yè)收入對比

圖表25　2016-2020年國內(nèi)外半導(dǎo)體設(shè)備代表公司的研發(fā)支出對比

圖表26　半導(dǎo)體企業(yè)技術(shù)迭代圖

圖表27　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)疽鈭D

圖表28　半導(dǎo)體上下游產(chǎn)業(yè)鏈

圖表29　半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移和產(chǎn)業(yè)分工

圖表30　集成電路產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移狀況

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