2022年中國光刻膠競爭格局及重點企業(yè)分析：企業(yè)加緊技術(shù)封鎖突破，國產(chǎn)光刻膠替代進程加速推進

內(nèi)容概要：因生產(chǎn)技術(shù)較為復雜、工藝所需光刻膠有嚴格的質(zhì)量要求且國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)工藝及產(chǎn)能不足以滿足市場需求，我國光刻膠市場主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數(shù)公司所壟斷，國內(nèi)光刻膠大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)企業(yè)相對較少，大部分企業(yè)目前仍處于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)階段或光刻膠生產(chǎn)線加緊建設(shè)階段。隨著國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化替代浪潮的興起，我國光刻膠產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)不斷增加，國產(chǎn)光刻膠技術(shù)專利申請量上升，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)水平不斷提升，國產(chǎn)供應能力不斷增強，行業(yè)市場國產(chǎn)化進程加速推進。

關(guān)鍵詞：光刻膠競爭格局、光刻膠技術(shù)研發(fā)、光刻膠產(chǎn)業(yè)重點企業(yè)分析、國產(chǎn)高端光刻膠

一、市場產(chǎn)品研發(fā)力度增強，國產(chǎn)光刻膠替代加速

光刻膠是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑3種材料組成的對光敏感的混合液體，可在光刻工藝過程中用作抗腐蝕涂層材料，是光刻工藝最重要的耗材，對光刻精度至關(guān)重要，光刻膠被稱為半導體材料皇冠上的明珠，是半導體產(chǎn)業(yè)最關(guān)鍵的材料。據(jù)在光刻膠工藝過程中形成的圖像，光刻膠可大致分為正性光刻膠和負性光刻膠兩大類，主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。

因生產(chǎn)技術(shù)較為復雜、工藝所需光刻膠有嚴格的質(zhì)量要求且國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)工藝及產(chǎn)能不足以滿足市場需求，我國光刻膠市場主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數(shù)公司所壟斷，國內(nèi)光刻膠大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)企業(yè)相對較少且企業(yè)所占市場份額較低，如2021年，晶瑞電材光刻膠業(yè)務收入為2.74億元，所占行業(yè)市場份額僅2.94%；國內(nèi)大部分企業(yè)目前仍處于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)階段或光刻膠生產(chǎn)線加緊建設(shè)階段，如國風新材與中科大及哈工大成立聯(lián)合實驗室開展PI光刻膠材料研究、萬潤股份的年產(chǎn)65噸光刻膠樹脂系列產(chǎn)品項目、飛凱材料的5000t/aTFT-LCD光刻膠項目、晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目、南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化研發(fā)項目等。

隨著國內(nèi)半導體產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化替代浪潮的興起，我國光刻膠產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)不斷增加，國產(chǎn)光刻膠技術(shù)專利申請量上升，主要由上海、北京、江蘇、廣東、安徽、浙江等省市地區(qū)企業(yè)申請，如京東方科技集團股份有限公司、中芯國際集成電路制造（上海)有限公司、中國科學院微電子研究所、上海華力微電子有限公司、中芯國際集成電路制造（北京）有限公司、上海華虹宏力半導體制造有限公司、臺灣積體電路制造股份有限公司、西安電子科技大學、上海華虹NEC電子有限公司、北京大學、中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所、北京京東方光電科技有限公司、長鑫存儲技術(shù)有限公司等，國內(nèi)光刻膠產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)水平不斷提升，國產(chǎn)供應能力不斷增強，行業(yè)市場國產(chǎn)化進程加速推進。

二、企業(yè)加大產(chǎn)品研發(fā)投入，南大光電突破ArF光刻膠技術(shù)封鎖

（一）南大光電：“02-專項”通過驗收，加速ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化實現(xiàn)

南大光電全稱江蘇南大光電材料股份有限公司，誕生于國家“863”計劃，于2000年正式創(chuàng)辦成立，成長于國家“02-專項”，于2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板掛牌上市。南大光電圍繞前驅(qū)體材料（包含MO源）、電子特氣和光刻膠三項核心電子材料進行奮斗，產(chǎn)品廣泛應用于制備IC、LCD、LED、OLED、功率器件、半導體激光器等領(lǐng)域，并通過在江蘇蘇州、浙江寧波、安徽全椒、山東淄博、內(nèi)蒙古烏蘭察布設(shè)立研發(fā)生產(chǎn)基地，在北美設(shè)立營銷技術(shù)服務分公司，企業(yè)基本形成了三大核心業(yè)務板塊布局。其中，浙江寧波的光刻膠生產(chǎn)基地占地面積達90666平方米，主要承擔企業(yè)高端光刻膠及配套材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。

2017年，南大光電承接另外國家“02-專項”高分辨率光刻膠產(chǎn)品關(guān)鍵技術(shù)的研究項目，達到光刻膠基礎(chǔ)配方分辨率相關(guān)技術(shù)節(jié)點要求和項目原定的技術(shù)指標要求，得到了“02-專項”項目驗收專家組的高度認可；2018年，02重大專項實施管理辦公室決定由該企業(yè)正式承擔193nm浸沒式光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目，持續(xù)突破ArF光刻膠產(chǎn)品技術(shù)封鎖。經(jīng)過長時間的研發(fā)投入及技術(shù)積累，2019年，南大光電的產(chǎn)能達到10噸/年的第一條光刻膠生產(chǎn)線在寧波市北侖區(qū)成功建成，并于2020年完成了總產(chǎn)能達到25噸/年的第二條光刻膠生產(chǎn)線。直至2020年底，南大光電193nmArF光刻膠先后通過存儲和邏輯兩家芯片制造企業(yè)的驗證，為量產(chǎn)打下了堅實基礎(chǔ)，成為國內(nèi)首個通過驗證的ArF光刻膠產(chǎn)品，企業(yè)ArF光刻膠研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化取得關(guān)鍵性突破；2021年建黨100周年前夕，企業(yè)“先進光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目順利通過驗收。

光刻膠及配套材料作為光刻工藝中的關(guān)鍵材料，廣泛應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工工藝中，且光刻膠質(zhì)量高度影響光刻工藝實施，目前，國內(nèi)光刻膠高端產(chǎn)品市場進口依存度較高。據(jù)悉，南大光電在國家重大科技攻關(guān)項目的支持下，不斷推動企業(yè)光刻膠技術(shù)研發(fā)完全自主化路線實施，其自主研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化的ArF光刻膠（包含干式及浸沒式）已可以達到90nm-14nm的集成電路工藝節(jié)點，將持續(xù)助力提升國家關(guān)鍵材料領(lǐng)域自主可控水平、突破國外光刻膠產(chǎn)品技術(shù)封鎖，有利于實現(xiàn)高端光刻膠的進口替代，加速國產(chǎn)產(chǎn)品替代化發(fā)展進程推進。2022年1-9月，南大光電產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)投入金額達1.29億元，同比增長66.3%。目前，南大光電光刻膠產(chǎn)品在研項目為“ArF光刻膠原材料及配套材料研究和產(chǎn)業(yè)化”，主要用于建立企業(yè)ArF光刻膠原材料及配套材料的產(chǎn)品檢測和質(zhì)量控制平臺、生產(chǎn)基地和產(chǎn)業(yè)化平臺，助力企業(yè)光刻膠業(yè)務產(chǎn)業(yè)化發(fā)展進程推進。

未來南大光電將堅定圍繞“為用戶提供更安全、經(jīng)濟、綠色的高品質(zhì)電子材料，成為國內(nèi)一流，具有國際競爭力的電子材料公司”這一戰(zhàn)略目標，堅守“真正的高科技、真正的產(chǎn)業(yè)化、真正的全球化”發(fā)展標準，踐行“安全第一、以客戶為中心、以業(yè)績?yōu)闃藴省比椈驹瓌t，光刻膠業(yè)務以通過國家驗收為新起點，圍繞重大科技專項及重點客戶需求，加快關(guān)鍵項目技術(shù)攻關(guān)，緊抓產(chǎn)品認證和市場拓展，加快企業(yè)ArF光刻膠產(chǎn)業(yè)化步伐，力爭實現(xiàn)“前驅(qū)體材料國際領(lǐng)先，電子特氣國內(nèi)一流，ArF光刻膠成功產(chǎn)業(yè)化”總發(fā)展目標。

（二）晶瑞電材：業(yè)務經(jīng)營收入增長，加緊ArF高端光刻膠研發(fā)

晶瑞電材企業(yè)全稱為晶瑞電子材料股份有限公司，成立創(chuàng)辦于2001年，是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的科技型新材料公司，企業(yè)主要生產(chǎn)產(chǎn)品保養(yǎng)有超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等，廣泛應用于半導體、面板顯示、LED等泛半導體領(lǐng)域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業(yè)。

相關(guān)報告：智研咨詢發(fā)布的《中國光刻膠行業(yè)市場發(fā)展模式及競爭格局預測報告》

光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學品之一，屬典型卡脖子材料，高端產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數(shù)公司所壟斷。為突破產(chǎn)品技術(shù)工藝封鎖，晶瑞電材圍繞半導體光刻膠領(lǐng)域進行產(chǎn)品研發(fā)，于1993年正式開始光刻膠產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)，2020年啟動了集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目，并于2020年下半年購買了ASML1900Gi型光刻機及配套設(shè)備，2021年下半年購入了尼康KrFS207光刻機及配套設(shè)備，有效助力國家關(guān)鍵材料領(lǐng)域“自主可控”水平的提升、半導體材料的“國產(chǎn)替代”。

經(jīng)過近30年的生產(chǎn)技術(shù)積累，目前，晶瑞電材已擁有了成系列的光刻機五臺，形成了負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數(shù)十個型號的光刻膠產(chǎn)品體系，且產(chǎn)品質(zhì)量達到國際中高級水準，在國內(nèi)具有悠久聲譽，i線光刻膠已向國內(nèi)中芯國際、合肥長鑫等知名大尺寸半導體廠商供貨、KrF（248nm深紫外）光刻膠產(chǎn)品分辨率達到了0.25～0.13μm的技術(shù)要求且KrF光刻膠生產(chǎn)及測試線已經(jīng)基本建成，，企業(yè)已成為我國供應半導體光刻膠出貨量最大的本土企業(yè)之一。

憑借企業(yè)在半導體光刻膠領(lǐng)域近30年的技術(shù)積累、近年來持續(xù)引進優(yōu)秀人才并加強團隊建設(shè)、多年良好的行業(yè)口碑等優(yōu)勢，晶瑞電材逐步打造并形成一個日趨完善的半導體光刻膠產(chǎn)品序列，企業(yè)光刻膠業(yè)務范圍不斷拓展。2019-2022年，晶瑞電材光刻膠業(yè)務營收呈現(xiàn)逐年上升態(tài)勢。2022年1-6月，晶瑞電材光刻膠及配套材料業(yè)務實現(xiàn)營業(yè)收入為1.37億元，同比增長3.84%；其中企業(yè)正、負型光刻膠營業(yè)收入同比增長11.25%，配套材料營業(yè)收入同比增長42.18%。

為突破國際高端光刻膠產(chǎn)品技術(shù)的封鎖、提高光刻膠市場國產(chǎn)自給率，晶瑞電材不斷加大尖端光刻膠的研發(fā)投入。2022年1-9月，晶瑞電材研發(fā)投入金額為4333.82萬元，同比增長37.74%。目前，晶瑞光電正加緊集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目（ArF）、適用于ArF光刻膠生產(chǎn)的成膜樹脂合成工藝研發(fā)、超高耐熱性I-line光刻膠研發(fā)、Acetal型正性光刻膠的研發(fā)、適用于250nm到130nm工藝節(jié)點KrF光刻膠研發(fā)等多個光刻膠產(chǎn)品技術(shù)項目研發(fā)，其中ArF高端光刻膠研發(fā)工作的正式啟動及研發(fā)工作的有序開展是晶瑞電材在光刻膠產(chǎn)品研發(fā)領(lǐng)域又一重點突破方向，將持續(xù)助力企業(yè)產(chǎn)品技術(shù)水平提升，推動我國高端光刻膠市場國產(chǎn)替代推進。

以上數(shù)據(jù)及信息可參考智研咨詢（yhcgw.cn）發(fā)布的《中國光刻膠行業(yè)市場發(fā)展模式及競爭格局預測報告》。智研咨詢是中國領(lǐng)先產(chǎn)業(yè)咨詢機構(gòu)，提供深度產(chǎn)業(yè)研究報告、商業(yè)計劃書、可行性研究報告及定制服務等一站式產(chǎn)業(yè)咨詢服務。您可以關(guān)注【智研咨詢】公眾號，每天及時掌握更多行業(yè)動態(tài)。