2023年全球及中國(guó)光刻膠行業(yè)全景速覽：本土企業(yè)積極布局，力爭(zhēng)提升國(guó)產(chǎn)化率[圖]

內(nèi)容概況：隨著半導(dǎo)體工藝的不斷升級(jí)，對(duì)光刻膠的技術(shù)要求也在不斷提高。國(guó)內(nèi)企業(yè)需要不斷進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新，提升光刻膠的性能和質(zhì)量，以滿足新一代半導(dǎo)體工藝的需求。數(shù)據(jù)顯示，2022年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到190.7億元，同比增長(zhǎng)8.5%。目前我國(guó)光刻膠行業(yè)需求量大于產(chǎn)量，中高端產(chǎn)品進(jìn)口需求迫切。數(shù)據(jù)顯示，2022年我國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)需量分別為3.8/8.4萬(wàn)噸，分別同比增長(zhǎng)5.8%、6.8%。

關(guān)鍵詞：光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠、LCD光刻膠、PCB光刻膠、光刻機(jī)

一、光刻膠綜述

光刻技術(shù)是利用光化學(xué)反應(yīng)原理和刻蝕方法將掩模版上的圖案?jìng)鬟f到晶圓的工藝技術(shù)，原理起源于印刷技術(shù)中的照相制版。光刻膠，是指經(jīng)過(guò)紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射后，溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，是光刻工藝中的關(guān)鍵材料。光刻膠經(jīng)過(guò)旋涂、前烘、曝光、后烘、顯影等工序后，可以將光掩模板上的微納圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，結(jié)合后續(xù)工藝實(shí)現(xiàn)目標(biāo)材料的圖案化和陣列化。

光刻膠根據(jù)其顯影原理可分為負(fù)性光刻膠和正性光刻膠。正性光刻膠經(jīng)光照輻射后，被曝光部分被顯影液溶解，而掩模版覆蓋部分則被保留，通常正性光刻膠可獲得較高的分辨率；負(fù)性光刻膠經(jīng)光照輻射后，被掩模版覆蓋而未經(jīng)曝光的部分被顯影液溶解。相比正性光刻膠，負(fù)性光刻膠在顯影時(shí)易發(fā)生變形及膨脹，因此造價(jià)較低。在實(shí)際生產(chǎn)中，正性光刻膠的應(yīng)用更為廣泛。另外按照應(yīng)用領(lǐng)域分，光刻膠可分為PCB光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠、面板光刻膠等。

縱觀半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展史，1950s貝爾實(shí)驗(yàn)室嘗試開(kāi)發(fā)首塊集成電路，半導(dǎo)體光刻膠由此誕生，伴隨邏輯支撐跟隨摩爾定律，光刻膠不斷推進(jìn)產(chǎn)業(yè)演進(jìn)。在新興終端市場(chǎng)需求配合國(guó)家政策扶持下，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈經(jīng)歷了美國(guó)誕生、日本壟斷兩大階段，現(xiàn)金伴隨著5G、AI行業(yè)快速發(fā)展與國(guó)內(nèi)政策大力扶持，中國(guó)有望承接來(lái)自日本、韓國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈，國(guó)產(chǎn)替代有望提升。

二、光刻膠行業(yè)相關(guān)政策梳理

2022年10月7日，美國(guó)商務(wù)部工業(yè)與安全局（BIS）公布了《對(duì)向中國(guó)出口的先進(jìn)計(jì)算和半導(dǎo)體制造物項(xiàng)實(shí)施新的出口管制》，美國(guó)對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制裁的再次升級(jí)。2023年3月，荷蘭加入美國(guó)對(duì)中國(guó)的半導(dǎo)體制裁，并陸續(xù)出臺(tái)相關(guān)政策。3月31日，日本政府周五宣布將限制23種半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口，此舉普遍被視為是在配合美國(guó)，通過(guò)出口管制措施以遏制中國(guó)制造先進(jìn)芯片的能力。當(dāng)前日本半導(dǎo)體的微細(xì)化水平在40納米左右，但在制造設(shè)備和原材料方面占有重要位置，在全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)中約占28%。我國(guó)陸續(xù)出臺(tái)多項(xiàng)政策扶持光刻膠產(chǎn)業(yè)，推進(jìn)光刻膠國(guó)產(chǎn)替代率提升。

三、光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈上游主要為樹(shù)脂、光引發(fā)劑、單體等；中游依據(jù)應(yīng)用范圍不同分為PCB光刻膠、LCD光刻膠以及半導(dǎo)體光刻膠，其中半導(dǎo)體光刻膠對(duì)工藝要求更為精細(xì)；下游應(yīng)用領(lǐng)域則主要為半導(dǎo)體、PCB、平板顯示屏等。

生產(chǎn)光刻膠的原料主要是成膜樹(shù)脂、光引發(fā)劑、溶劑及添加劑等。原材料質(zhì)量及配方比例是決定光刻膠產(chǎn)品品質(zhì)的重要因素。從成本結(jié)構(gòu)來(lái)看，光刻膠樹(shù)脂成本占比接近50%，其次添加劑（單體）成本占比約為35%，光引發(fā)劑及其他助劑成本占比15%。目前我國(guó)光刻膠原材料市場(chǎng)基本被國(guó)外廠商壟斷，除部分中低端成膜樹(shù)脂，以及溶劑外，其他原材料供應(yīng)商中少有中國(guó)企業(yè)的身影。

從下游需求來(lái)看，全球光刻膠市場(chǎng)上，產(chǎn)品占比較為均衡，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%。我國(guó)光刻膠市場(chǎng)集中在顯示面板市場(chǎng)，2022年我國(guó)光刻膠PCB領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模41.14億元；光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域39.3億元；光刻膠面板領(lǐng)域107億元；其他領(lǐng)域3.25億元。

相關(guān)報(bào)告：智研咨詢發(fā)布的《中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)深度分析及未來(lái)趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》

四、光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀分析

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和新興應(yīng)用領(lǐng)域的拓展，電視、筆記本電腦、手機(jī)、智能家居等終端應(yīng)用催生了對(duì)半導(dǎo)體芯片、顯示屏等的需求。作為半導(dǎo)體芯片、顯示屏等制造工藝中重要的上游材料，光刻膠市場(chǎng)一直處于穩(wěn)定增長(zhǎng)狀態(tài)。從全球市場(chǎng)規(guī)模來(lái)看，據(jù)統(tǒng)計(jì)，2022年全球光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到101.6億美元，同比增長(zhǎng)6.4%。

其中半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)ArFi占比最大（38%），其次為KrF（34%）、G/I線（16%）、ArF（10%），EUV占比最小（1%）。當(dāng)前G/I線光刻膠的市場(chǎng)空間趨于飽和，未來(lái)占比將逐年減少，而EUV光刻膠主要用于7nm及更小的邏輯制程節(jié)點(diǎn)，隨著相關(guān)技術(shù)的研發(fā)升級(jí)，EUV市場(chǎng)占比持續(xù)提升。

就國(guó)內(nèi)市場(chǎng)而言，隨著半導(dǎo)體工藝的不斷升級(jí)，對(duì)光刻膠的技術(shù)要求也在不斷提高。國(guó)內(nèi)企業(yè)需要不斷進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新，提升光刻膠的性能和質(zhì)量，以滿足新一代半導(dǎo)體工藝的需求。數(shù)據(jù)顯示，2022年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到190.7億元，同比增長(zhǎng)8.5%。

國(guó)內(nèi)市場(chǎng)供需方面，目前我國(guó)光刻膠行業(yè)需求量大于產(chǎn)量，中高端產(chǎn)品進(jìn)口需求迫切。數(shù)據(jù)顯示，2022年我國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)需量分別為3.8/8.4萬(wàn)噸，分別同比增長(zhǎng)5.8%、6.8%。產(chǎn)品價(jià)格方面，近年來(lái)國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)均價(jià)保持小幅提升，2022年國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)價(jià)格達(dá)到22.78萬(wàn)元/噸。

五、光刻膠行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)情況

從行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)來(lái)看，目前全球高端半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)主要被日本和美國(guó)公司壟斷，日企全球市占率約80%，處于絕對(duì)領(lǐng)先地位。主流廠商包括日本的東京應(yīng)化（27%）、JSR（13%）、富士、信越化學(xué)、住友化學(xué)，以及美國(guó)杜邦（17%）、歐洲AZEM和韓國(guó)東進(jìn)世美肯等。

國(guó)內(nèi)市場(chǎng)方面，我國(guó)光刻膠行業(yè)起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在中低端光刻膠領(lǐng)域。目前布局光刻膠的本土企業(yè)主要有晶瑞電材（蘇州瑞紅）、彤程新材（北京科華）、華懋科技（徐州康博）等，已經(jīng)有G/I線、KrF與ArF技術(shù)的布局，但EUV仍暫處于空白狀態(tài)。

六、光刻膠行業(yè)未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)

1、EUV光刻膠將成為主流。光刻膠的波長(zhǎng)由紫外寬譜向g線（436納米）、i線（365納米）、KrF（248納米）、ArF（193納米）、EUV（13.5納米）的方向轉(zhuǎn)移。隨著光刻膠的曝光波長(zhǎng)縮短，光刻膠所能達(dá)到的極限分辨率將得以提升，從而提高集成電路的集成度，推進(jìn)集成電路芯片向更小的制程節(jié)點(diǎn)發(fā)展。

2、產(chǎn)品定制化需求增長(zhǎng)。在全球化技術(shù)浪潮發(fā)展的背景下，全球制造業(yè)供給側(cè)結(jié)構(gòu)性改革正加快升級(jí)步伐，促使了光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用領(lǐng)域產(chǎn)品趨向定制化和多樣化需求增長(zhǎng)。光刻膠行業(yè)下游終端應(yīng)用企業(yè)積極尋求差異化優(yōu)勢(shì)，對(duì)光刻膠制造商的研發(fā)能力、技術(shù)工藝和光刻膠產(chǎn)品性能等方面的要求持續(xù)朝著定制化、個(gè)性化方向發(fā)展。

3、產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)化程度提升。當(dāng)前，中國(guó)光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)技術(shù)仍主要依賴進(jìn)口，尤其是生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠主要設(shè)備和材料主要依賴進(jìn)口，對(duì)外依存度達(dá)到90%以上。。在“中國(guó)制造2025”的背景下，中國(guó)本土光刻膠企業(yè)正積極對(duì)標(biāo)國(guó)外光刻膠技術(shù)，同時(shí)對(duì)新的核心技術(shù)有著較大的發(fā)展需求，這促使中國(guó)本土光刻膠企業(yè)研發(fā)動(dòng)力不斷增強(qiáng)，中國(guó)有望在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)中高端光刻膠產(chǎn)品替代。目前中國(guó)蘇州瑞紅和科華微電子已掌握了自主研發(fā)的i線、KrF和EUV光刻膠技術(shù)，其中蘇州瑞紅和科華微電子在i線和KrF光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了自主加工制造。隨著中國(guó)光刻膠技術(shù)不斷進(jìn)步和行業(yè)下游需求持續(xù)增長(zhǎng)，未來(lái)中國(guó)光刻膠將逐步完成國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)口，光刻膠的國(guó)產(chǎn)化趨勢(shì)明顯。

以上數(shù)據(jù)及信息可參考智研咨詢（yhcgw.cn）發(fā)布的《中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)深度分析及未來(lái)趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》。智研咨詢是中國(guó)領(lǐng)先產(chǎn)業(yè)咨詢機(jī)構(gòu)，提供深度產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、商業(yè)計(jì)劃書(shū)、可行性研究報(bào)告及定制服務(wù)等一站式產(chǎn)業(yè)咨詢服務(wù)。您可以關(guān)注【智研咨詢】公眾號(hào)，每天及時(shí)掌握更多行業(yè)動(dòng)態(tài)。