研判2025！中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀、競(jìng)爭(zhēng)格局及未來(lái)前景：行業(yè)高度依賴進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)任重道遠(yuǎn)[圖]

內(nèi)容概要：光刻機(jī)，又稱光刻對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)或光刻系統(tǒng)等，是光刻工藝乃至整個(gè)芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備。近幾年來(lái)，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的加速崛起，我國(guó)光刻機(jī)應(yīng)用需求迅速激增。同時(shí)，我國(guó)政府正在加快努力推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光刻機(jī)是中央政策指明要重點(diǎn)突破發(fā)展卡脖子技術(shù)及裝備，因此，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)行業(yè)得到了資金支持、稅收優(yōu)惠等一系列國(guó)家政策傾斜，持續(xù)助力了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)生產(chǎn)能力提升，推動(dòng)了國(guó)內(nèi)光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模上漲。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2023年，我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量達(dá)124臺(tái)，全國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模已突破至160.87億元。

相關(guān)上市企業(yè)：阿斯麥（0M42）；芯碁微裝（688630）；富創(chuàng)精密（688409）；南大光電（300346）；芯源微（688037）；雅克科技（002409）；新萊應(yīng)材（300260）；大族激光（002008）；容大感光（300576）；旭光電子（600353）；賽微電子（300456）等

相關(guān)企業(yè)：上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司；天津芯碩精密機(jī)械有限公司；北京科益虹源光電技術(shù)有限公司等

關(guān)鍵詞：產(chǎn)業(yè)鏈；全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模；國(guó)內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)量；國(guó)內(nèi)光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模；產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局；發(fā)展趨勢(shì)等

一、行業(yè)概況

光刻機(jī)，又稱光刻對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)或光刻系統(tǒng)等，是光刻工藝乃至整個(gè)芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備。按操作簡(jiǎn)便性程度，光刻機(jī)可分為手動(dòng)光刻機(jī)、半自動(dòng)光刻機(jī)和全自動(dòng)光刻機(jī)；按曝光方式的不同，可分為接近接觸式光刻機(jī)、直寫光刻機(jī)和光學(xué)投影式光刻機(jī)；按光源類型的不同，可分為紫外（UV）光刻機(jī)、深紫外（DUV）光刻機(jī)和極紫外（EUV）光刻機(jī)。

光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游為光刻機(jī)生產(chǎn)所需的材料、設(shè)備及組件的生產(chǎn)供應(yīng)環(huán)節(jié)，主要包括光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設(shè)備等材料及設(shè)備，以及激光器、掩膜板、掩膜臺(tái)、遮光器等組件產(chǎn)品。產(chǎn)業(yè)鏈中游為光刻機(jī)生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，代表廠商有ASML、Canon、大族激光、芯碁微裝、Nikon、上海微電子等。產(chǎn)業(yè)鏈下游為光刻機(jī)應(yīng)用需求領(lǐng)域，主要包括芯片制作、芯片封裝、功率器件制造、LED、MEMS制造等產(chǎn)業(yè)。

二、全球市場(chǎng)

近年來(lái)，消費(fèi)電子領(lǐng)域的需求呈現(xiàn)出相對(duì)低迷的態(tài)勢(shì)，然而，在這樣的大環(huán)境下，電動(dòng)汽車、風(fēng)光儲(chǔ)以及人工智能等嶄新的需求領(lǐng)域卻異軍突起，成為了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)成長(zhǎng)的強(qiáng)勁新動(dòng)能。在這些新興需求的有力推動(dòng)下，全球光刻機(jī)應(yīng)用需求不斷增加，市場(chǎng)規(guī)模實(shí)現(xiàn)了平穩(wěn)增長(zhǎng)。數(shù)據(jù)顯示，2023年，全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模已增長(zhǎng)至271.3億美元，2024年有望進(jìn)一步增至315億美元。

從全球光刻機(jī)產(chǎn)品銷量結(jié)構(gòu)占比情況來(lái)看，目前全球光刻機(jī)行業(yè)銷售仍以中低端產(chǎn)品（KrF、i-Line）為主，占比分別為37.9%和33.6%；其次分別為ArFi、ArF dry、EUV，占比分別為15.4%、5.8%及7.3%。這表明不同類型光刻機(jī)在市場(chǎng)中的需求存在差異。值得注意的是，近年來(lái)，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，EUV已逐漸成為全球光刻機(jī)的重要發(fā)展方向之一，將成為未來(lái)全球光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展的主要推力。

相關(guān)報(bào)告：智研咨詢發(fā)布的《中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢(shì)及投資決策建議報(bào)告》

三、國(guó)內(nèi)市場(chǎng)

光刻機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一。近幾年來(lái)，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的加速崛起，我國(guó)光刻機(jī)應(yīng)用需求迅速激增。同時(shí)，我國(guó)政府正在加快努力推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，光刻機(jī)是中央政策指明要重點(diǎn)突破發(fā)展卡脖子技術(shù)及裝備，因此，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)行業(yè)得到了資金支持、稅收優(yōu)惠等一系列國(guó)家政策傾斜，持續(xù)助力了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)生產(chǎn)能力提升，推動(dòng)了國(guó)內(nèi)光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模上漲。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2023年，我國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量達(dá)124臺(tái)，全國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模已突破至160.87億元。

我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)產(chǎn)品供應(yīng)嚴(yán)重依賴ASML光刻機(jī)進(jìn)口。但由于ASML必須獲得荷蘭政府的出口許可證才能出售其先進(jìn)的DUV工具，因此，實(shí)際上我國(guó)實(shí)體難以獲得這些機(jī)器。近年來(lái)，在國(guó)家政策支持下，國(guó)內(nèi)企業(yè)加速研發(fā)突破光刻機(jī)制造技術(shù)，目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)在90nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)方面取得了重要進(jìn)展。例如，上海微電子自主研發(fā)的600系列光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)90nm工藝的量產(chǎn)，并正在進(jìn)行28nm浸沒(méi)式光刻機(jī)的研發(fā)工作。此外，工信部發(fā)布的《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》中，也披露了一臺(tái)氟化氬光刻機(jī)，其分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片產(chǎn)線中的部分工藝。但整體來(lái)說(shuō)，目前我國(guó)光刻機(jī)行業(yè)國(guó)產(chǎn)化率僅為2.5%，整機(jī)技術(shù)仍與海外存在差距較大。數(shù)據(jù)顯示，2023年我國(guó)進(jìn)口光刻機(jī)數(shù)量高達(dá)225臺(tái)，進(jìn)口金額高達(dá)87.54億美元，進(jìn)口金額創(chuàng)下歷史新高，且預(yù)計(jì)在未來(lái)3-5年內(nèi)，我國(guó)光刻機(jī)仍將主要依賴于進(jìn)口。

四、競(jìng)爭(zhēng)格局

從全球競(jìng)爭(zhēng)市場(chǎng)來(lái)看，目前全球光刻機(jī)行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，荷蘭ASML、日本Canon和日本Nikon三家供應(yīng)商占據(jù)絕大多數(shù)市場(chǎng)份額。其中，荷蘭ASML市場(chǎng)份額占比82.1%，日本Canon市場(chǎng)份額占比10.2%，日本Nikon市場(chǎng)份額占比7.7%。

從國(guó)內(nèi)市場(chǎng)看中，上海微電子是目前中國(guó)第一家也是唯一一家光刻機(jī)巨頭，具備90nm及以下的芯片制造能力。根據(jù)公開(kāi)數(shù)據(jù)，上海微電子光刻機(jī)出貨量占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額的比例已超過(guò)80%。此外，北京華卓精科、北京科益虹源等國(guó)內(nèi)企業(yè)也在積極研發(fā)和生產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備，共同推動(dòng)國(guó)內(nèi)光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展。目前，我國(guó)14nm光刻機(jī)已經(jīng)進(jìn)入量產(chǎn)階段，而7nm的研發(fā)也在緊鑼密鼓地進(jìn)行。

上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司（即上海微電子）成立于2002年，簡(jiǎn)稱SMEE，主要致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售及技術(shù)服務(wù)，是中國(guó)領(lǐng)先的光刻設(shè)備制造商，旗下光刻機(jī)產(chǎn)品涵蓋了從幾微米到28納米的多種技術(shù)節(jié)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等半導(dǎo)體制造領(lǐng)域。

合肥芯碁微電子裝備股份有限公司成立于2015年6月，2021年 4 月在科創(chuàng)板上市，股票簡(jiǎn)稱“芯碁微裝”。芯碁微裝主要從事以微納直寫光刻為技術(shù)核心的直接成像設(shè)備及直寫光刻設(shè)備的研發(fā)、制造、銷售以及相應(yīng)的維保服務(wù)，是國(guó)內(nèi)直寫光刻設(shè)備龍頭企業(yè)，在直寫光刻設(shè)備領(lǐng)域推出了多個(gè)產(chǎn)品系列，如MAS系列、RTR系列、NEX系列、FAST系列、DILINE系列等，已廣泛應(yīng)用在IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件、IC掩膜版制造、先進(jìn)封裝、顯示光刻等環(huán)節(jié)。數(shù)據(jù)顯示，2024年上半年，芯碁微裝營(yíng)業(yè)收入為7.18億元，同比增長(zhǎng)37.05%。

五、發(fā)展趨勢(shì)

1、產(chǎn)業(yè)發(fā)展將日益繁榮

光刻機(jī)行業(yè)正經(jīng)歷著技術(shù)上的快速進(jìn)步，以滿足日益增長(zhǎng)的半導(dǎo)體制造需求。隨著新能源汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，芯片需求持續(xù)增長(zhǎng)，這將進(jìn)一步推動(dòng)光刻機(jī)市場(chǎng)的繁榮。EUV光刻機(jī)作為當(dāng)前發(fā)展的熱點(diǎn)，未來(lái)有望在精度和效率上實(shí)現(xiàn)更大突破。同時(shí)，多重圖案化技術(shù)、原子層沉積技術(shù)等新技術(shù)也將得到廣泛應(yīng)用。這些技術(shù)進(jìn)步將不僅提升光刻機(jī)的性能，還將推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的整體發(fā)展。

2、國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加速

近年來(lái)，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展，成功打破了部分技術(shù)封鎖，實(shí)現(xiàn)了全流程國(guó)產(chǎn)化。這一突破不僅為國(guó)內(nèi)高科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了強(qiáng)大動(dòng)力，還使得我國(guó)在全球光刻機(jī)市場(chǎng)中的地位逐漸提升。隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展和國(guó)產(chǎn)替代政策的推進(jìn)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)有望在市場(chǎng)上占據(jù)更大的份額。同時(shí)，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)也在不斷加強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新和資源整合，以提升自身競(jìng)爭(zhēng)力。

3、行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)不斷加劇

光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)寡頭競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)，荷蘭ASML、日本Nikon和Canon是主要競(jìng)爭(zhēng)者。然而，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和市場(chǎng)的不斷擴(kuò)大，競(jìng)爭(zhēng)格局將發(fā)生變化。ASML在高端和EUV光刻機(jī)領(lǐng)域占據(jù)絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，但國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)正在通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新和資源整合縮小與國(guó)際先進(jìn)水平的差距。未來(lái)，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)有望在全球市場(chǎng)中占據(jù)一席之地，與國(guó)際巨頭形成更加激烈的競(jìng)爭(zhēng)態(tài)勢(shì)。

以上數(shù)據(jù)及信息可參考智研咨詢（yhcgw.cn）發(fā)布的《中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢(shì)及投資決策建議報(bào)告》。智研咨詢是中國(guó)領(lǐng)先產(chǎn)業(yè)咨詢機(jī)構(gòu)，提供深度產(chǎn)業(yè)研究報(bào)告、商業(yè)計(jì)劃書(shū)、可行性研究報(bào)告及定制服務(wù)等一站式產(chǎn)業(yè)咨詢服務(wù)。您可以關(guān)注【智研咨詢】公眾號(hào)，每天及時(shí)掌握更多行業(yè)動(dòng)態(tài)。