集成電路的工序之復(fù)雜與精細堪稱人類工業(yè)文明的皇冠,而光刻機則是這個皇冠上的明珠。
隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷迭代,其加工工藝亦面臨重重挑戰(zhàn)。而在芯片生產(chǎn)過程中最大的挑戰(zhàn)之一,即是光刻工藝,其決定了芯片晶體管尺寸的大小,從而直接影響芯片性能和功耗。作為光刻技術(shù)的關(guān)鍵設(shè)備,光刻機單臺價值量高達上億美元,其購置成本達到半導(dǎo)體設(shè)備總投資的20%以上,是芯片制造前道工藝七大設(shè)備之首。
光刻機之復(fù)雜程度堪稱人類科技之巔。一方面,光刻機制造是多學(xué)科交織的極其復(fù)雜的工程,其研發(fā)集成了精密光學(xué)、精密運動學(xué)、高精度微環(huán)境控制、算法、微電子、高精度測控等多學(xué)科全球最頂尖工程師和科學(xué)家的智慧。另一方面,光刻機是一整套完整的納米工業(yè)體系,要產(chǎn)出納米級精度的芯片,需要其背后的光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭系統(tǒng)、精密運動和環(huán)境控制系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、聚焦系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)等模塊全部達到納米級精度,并且高度集成和協(xié)同,每一個子系統(tǒng)的技術(shù)迭代成果均蘊含了該領(lǐng)域最前沿的高精尖技術(shù)。毫不夸張地說,光刻機是人類工業(yè)文明的巔峰之作,是現(xiàn)代工業(yè)體系皇冠上的明珠。
光刻機這顆璀璨的明珠是ASML博采眾家之長和持續(xù)高強度戰(zhàn)略投入的結(jié)晶。
自上世紀(jì)80年代起,圍繞著光刻機分辨率、套刻精度、生產(chǎn)效率等關(guān)鍵要素的提升,一批光刻機制造商相繼展開角逐。而ASML憑借雙工件臺、浸沒式技術(shù)和EUV的里程碑式重大突破,一步步將光刻工藝推向新的高度。當(dāng)前,ASML獨占全球中高端光刻設(shè)備出貨量的95% ,成為當(dāng)之無愧的全球光刻設(shè)備霸主。
綜觀ASML崛起的歷史,其之所以能用30年時間建立極高的壁壘,離不開其高強度投入和供應(yīng)鏈整合。一方面,ASML極為重視技術(shù)更新迭代,一直投入大量資金,并最終轉(zhuǎn)化為技術(shù)護城河。ASML研發(fā)支出多年持續(xù)上漲,2022年研發(fā)支出已達到241.50億元。另一方面,ASML利用已有的制造業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈打造自己的生態(tài)體系。在上游端,ASML通過收購與投資40余家產(chǎn)業(yè)鏈核心優(yōu)質(zhì)公司以占據(jù)技術(shù)制高點;在下游端,ASML與英特爾、臺積電和三星等巨頭開展深度合作,舉眾多半導(dǎo)體龍頭企業(yè)之力推動其光刻機的迭代出新。
景氣周期&自主可控驅(qū)動成長,國內(nèi)廠商逢山開道砥礪前行。
據(jù)SIA數(shù)據(jù)顯示,2023年9月全球半導(dǎo)體銷售額環(huán)比增長1.9%,至此,全球半導(dǎo)體銷售額已實現(xiàn)連續(xù)七個月的環(huán)比增長,半導(dǎo)體景氣回升或已接近破曉時分。
與此同時,AI芯片、高性能計算、汽車等領(lǐng)域的強勁需求持續(xù)推動半導(dǎo)體資本開支的增長,SEMI指出,自2024年起全球前端的300mm晶圓廠設(shè)備支出將恢復(fù)增長,預(yù)計2024年增長12%至820億美元,2025年增長24%至1019億美元,并在2026年達到1188億美元的歷史新高。鑒于光刻機產(chǎn)業(yè)鏈極高的技術(shù)壁壘,以及不可或缺的產(chǎn)業(yè)地位,在海外對華先進技術(shù)嚴密管控的當(dāng)下,該領(lǐng)域的自主可控具有十分緊迫的戰(zhàn)略價值。
工欲善其事,必先利其器。雖然起步較晚,且基礎(chǔ)薄弱,但國內(nèi)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈從業(yè)者正在積極追趕,補足短板,并在相關(guān)零部件、光學(xué)部件、激光器件、雙工件臺、掩膜版等領(lǐng)域取得一定進展。假以時日,隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上下游協(xié)同攻關(guān),產(chǎn)業(yè)政策積極引導(dǎo),以及多方資本有力加持,國產(chǎn)光刻機及相關(guān)供應(yīng)鏈有望順利揚帆,并為科技信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展保駕護航。
投資建議:建議關(guān)注光刻機產(chǎn)業(yè)鏈整機及相關(guān)零部件公司,包括:上海微電子(未上市)、華卓精科(未上市)、科益虹源(未上市)、蘇大維格、晶方科技、新萊應(yīng)材、騰景科技、茂萊光學(xué)、炬光科技、福晶科技、福光股份、美??萍?、清溢光電、路維光電、芯碁微裝。
風(fēng)險提示:下游需求不及預(yù)期風(fēng)險、相關(guān)企業(yè)業(yè)務(wù)開展不及預(yù)期風(fēng)險、設(shè)備國產(chǎn)化進程不及預(yù)期風(fēng)險、半導(dǎo)體行業(yè)資本開支不及預(yù)期、地緣政治風(fēng)險。
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轉(zhuǎn)自華福證券有限責(zé)任公司 研究員:楊鐘
2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告
《2025-2031年中國光刻機產(chǎn)業(yè)競爭現(xiàn)狀及市場發(fā)展策略報告》共十章,包含2025-2031年行業(yè)前景及趨勢預(yù)測,2025-2031年光刻機行業(yè)投資策略研究,光刻機行業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略研究等內(nèi)容。
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