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科研人員研發(fā)出鈦基納米復(fù)合涂層新工藝

俄羅斯烏拉爾聯(lián)邦大學(xué)和俄羅斯科學(xué)院烏拉爾分院電物理研究所科研人員聯(lián)合研發(fā)出一種鈦基四組分納米復(fù)合涂層TiSiCN(鈦、硅、碳、氮)新工藝,可作為耐磨性保護(hù)涂層用于保護(hù)飛機(jī)和燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)等部件,廣泛應(yīng)用于金屬加工和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。該復(fù)合涂層不需要高溫,也無(wú)需附加裝置和材料。研究結(jié)果發(fā)表在《Membranes》雜志上。


俄科研人員采用等離子體化學(xué)分解法,用具有空心陰極和活性陽(yáng)極的氣體放電裝置來(lái)制造多組分活性介質(zhì),無(wú)需單獨(dú)安裝電離和過(guò)濾系統(tǒng)??蒲腥藛T使用含有參與最終結(jié)構(gòu)形成的SiC(硅、碳)和SiN(硅、氮)鍵的有機(jī)硅前體—揮發(fā)性低毒液體,通過(guò)等離子體中的電子束蒸發(fā)鈦,將鈦添加到前體氣體介質(zhì)中,在處理過(guò)的部件表面形成TiN(鈦、氮)、TiC(鈦、碳)或 TiCN(鈦、碳、氮)晶體組成的納米晶相涂層。該工藝比磁控濺射具有更高的沉積速率和高離子通量密度,且成本低、無(wú)污染。


注:本文摘自國(guó)外相關(guān)研究報(bào)道,文章內(nèi)容不代表本網(wǎng)站觀點(diǎn)和立場(chǎng),僅供參考。


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2025-2031年中國(guó)電子材料行業(yè)市場(chǎng)全景調(diào)研及投資前景研判報(bào)告
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《2025-2031年中國(guó)電子材料行業(yè)市場(chǎng)全景調(diào)研及投資前景研判報(bào)告》共十三章,包含2020-2024年電子材料產(chǎn)業(yè)鏈下游電子信息行業(yè)分析,國(guó)外重點(diǎn)電子材料企業(yè)運(yùn)營(yíng)分析,中國(guó)重點(diǎn)電子材料企業(yè)運(yùn)營(yíng)分析等內(nèi)容。

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