在三星、SK海力士開始啟用EUV光刻機閃存內(nèi)存芯片之后，美光現(xiàn)在也要加入了，跟ASML談判采購EUV光刻機，2024年生產(chǎn)新的EUV內(nèi)存芯片。
觀察到EUV平臺及生態(tài)系統(tǒng)成熟，美光也會在產(chǎn)品路線圖中插入EUV光刻技術(shù)。
現(xiàn)在美光已將2021財年的治本指出略微提升到95億美元，已經(jīng)開始跟ASML公司談判購買EUV光刻機，不過現(xiàn)在還沒有公布細節(jié)，EUV現(xiàn)在供應緊張，臺積電、三星采購的較多，美光還要等等。
根據(jù)美光的計劃，EUV光刻工藝要到2024年才會導入，首發(fā)用于1-Gama工藝的內(nèi)存，后面還會進一步擴展到更下一代的1-Delta工藝內(nèi)存芯片中。
美光日前發(fā)布了2021財年Q3財報，截至6月3的季度中公司營收74.2億美元，同比增長19%，凈利潤17.4億美元，相比2020年同期的8億美元大漲116%。
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