國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)該如破局？我國(guó)已投入3387億扶持，中企一個(gè)月產(chǎn)出兩臺(tái)[圖]

    “我們不生產(chǎn)水，我們只是大自然的搬運(yùn)工“，一家生產(chǎn)礦泉水公司的口號(hào)卻與一家半導(dǎo)體企業(yè)的理念遙相呼應(yīng)。自2017年臺(tái)積電市值躍居為全球首位后，像美國(guó)英特爾這樣的半導(dǎo)體企業(yè)也只能跟其身后。在掌門人張忠謀的帶領(lǐng)下，臺(tái)積電走了芯片代工這條路，并且成為了蘋果、高通以及華為自研芯片離不開的代工廠。但代工巨頭臺(tái)積電的芯片制造設(shè)備對(duì)美國(guó)具有極大的依賴性，在美國(guó)對(duì)華為的步步緊迫下，為了防止中興事件的再一次發(fā)生，華為芯片的代工也逐漸轉(zhuǎn)向了國(guó)內(nèi)芯片制造公司。

    華為砍掉臺(tái)積電代工的5納米芯片訂單量是否轉(zhuǎn)向國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈？

    根據(jù)有關(guān)消息，目前華為旗下的海思公司砍掉了交由臺(tái)積電代工5納米芯片的訂單量，但如今僅有臺(tái)積電和三星兩大企業(yè)拿下了5納米加工工藝，至于華為是否想扶持除屏幕之外的芯片國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈我們不得而知，根據(jù)目前的國(guó)際半導(dǎo)體形式，華為也必須打造一條可靠的國(guó)產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈。目前華為為自家手機(jī)新研制的14納米級(jí)芯片麒麟710A，就是由中芯國(guó)際代工生產(chǎn)的芯片，這僅僅是華為從設(shè)計(jì)國(guó)產(chǎn)芯片到芯片制造國(guó)產(chǎn)化的第一步，而中芯國(guó)際能生產(chǎn)芯片的關(guān)鍵設(shè)備就是“光刻機(jī)”。

    中芯國(guó)際已經(jīng)代工華為麒麟710A 14納米級(jí)芯片并有能力實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

    與臺(tái)積電本身的性質(zhì)相似，中芯國(guó)際也是屬于全球先進(jìn)的芯片代工企業(yè)之一，自2000年成立的中芯國(guó)際經(jīng)過上十年的發(fā)展，做到了全中國(guó)規(guī)模最大技術(shù)最為先進(jìn)的芯片加工企業(yè)。而中芯國(guó)際能替華為代工14納米芯片的原因在于，其已經(jīng)掌握14納米加工工藝并且實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)，這也是中國(guó)中高端半導(dǎo)體行業(yè)的里程碑。不僅如此中芯國(guó)際目前正在抓緊時(shí)間向著7納米級(jí)芯片邁進(jìn)，而且還斥資8.4億人民幣向ASML公司訂購(gòu)了一臺(tái)極紫外光刻機(jī)，以謀求在7納米級(jí)技術(shù)上有所突破。

    兩年前中芯國(guó)際向ASML公司花費(fèi)8.4億訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)至今未到貨

    但令所有人沒想到的是，這臺(tái)堪稱天價(jià)的芯片加工設(shè)備歷經(jīng)兩年仍未交付，并且近期在美國(guó)的刁難下其交付仍然遙遙無期。那么EUV光刻機(jī)為何會(huì)賣出天價(jià)，相較于普通的DUV深紫外光刻機(jī)有什么不同呢？在硅晶圓加工成芯片的過程中，最為核心的就是紫外線曝光步驟。在光刻機(jī)激光器、能量控制器等準(zhǔn)備就緒后，光掩膜臺(tái)上已經(jīng)放置好了印有芯片電路的光掩膜。在紫外線的曝光下，掩膜上的電路就會(huì)投射到曝光臺(tái)上的晶圓，而且晶圓上已經(jīng)涂抹了感光性的光刻膠，這時(shí)芯片設(shè)計(jì)電路就會(huì)在晶圓上刻蝕出現(xiàn)。

    相較于普通的DUV深紫外光刻機(jī)EUV光刻機(jī)有什么與眾不同之處呢？

    而由光刻機(jī)激光器發(fā)出的紫外光對(duì)著芯片加工工藝有著關(guān)鍵的影響，芯片加工精度的提高與光源的波長(zhǎng)有著緊密的聯(lián)系。目前加工芯片應(yīng)用最為廣泛的光刻機(jī)當(dāng)屬DUV深紫外光刻機(jī)，這種光刻機(jī)的波長(zhǎng)就是從436納米逐漸縮小至193納米的，但是這種光刻機(jī)加工芯片的極限為7納米，想要進(jìn)一步開發(fā)波長(zhǎng)更短的DUV極為困難。所以ASML公司最終選擇改變光源的方式，研制出采用13.5納米極紫外光的光刻機(jī)，而且全球僅有其一家公司掌握EUV光刻機(jī)制造技術(shù)，其壟斷地位自然決定了EUV光刻機(jī)的高價(jià)格。

    上月初中芯國(guó)際到貨的一臺(tái)光刻機(jī)并非是EUV極紫外光刻機(jī)

    在上月初一臺(tái)來自ASML公司的光刻機(jī)被中芯國(guó)際接收，一時(shí)引起了不小的反響，但值得注意的是，這臺(tái)光刻機(jī)并非EUV極紫外光刻機(jī)，而是一臺(tái)DUV深紫外光刻機(jī)。中芯國(guó)際想要在7納米以下芯片研制上有所建樹，ASML公司的EUV光刻機(jī)可以說具有關(guān)鍵性的作用。國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)雖然精度不高，但也在穩(wěn)步發(fā)展中，如今中國(guó)光刻機(jī)的進(jìn)展也有所突破。從上月開始中國(guó)安芯半導(dǎo)體公司在一個(gè)月左右陸續(xù)有兩臺(tái)光刻機(jī)出貨，其國(guó)產(chǎn)化率高達(dá)70%，并且已經(jīng)交付使用。

    中國(guó)安芯半導(dǎo)體公司在一個(gè)月左右生產(chǎn)交付了兩臺(tái)國(guó)產(chǎn)率70%的光刻機(jī)

    其中第一臺(tái)光刻機(jī)的目的地是?？低暎饕挥米鞫鷾貥尩闹圃?，第二臺(tái)光刻機(jī)被國(guó)內(nèi)一家研究所用于互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體領(lǐng)域的研究，這家靠翻新光刻機(jī)起家的企業(yè)已經(jīng)轉(zhuǎn)向了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的研制，此次出貨兩臺(tái)光刻機(jī)無疑讓所有人耳目一新。目前我國(guó)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的整體水平大致在90納米左右，中科院在22納米光刻機(jī)技術(shù)上有所進(jìn)展，光刻機(jī)的研發(fā)只能一步步靠技術(shù)積累。如今中國(guó)成立的國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金前期投入已經(jīng)達(dá)到3387億，目的就是為了扶持國(guó)產(chǎn)芯片、光刻機(jī)等半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。未來國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)之路仍然任重道遠(yuǎn)，且交給時(shí)間來見證。